Analysegeräte

Um die Qualität der hergestellten Mikro- und Nanotrukturen zu untersuchen, stellt die TDSU 1 verschiedene moderne Analyseverfahren zur Verfügung.

Leica DM4M

Das Mikroskop ist eine zerstörungsfreie, optische Untersuchungsmethode. Es stehen zwei optische Mikroskope DM4 M mit verschiedenen Objektiven im Reinraum zur Verfügung.

Kenndaten

  •     Trocken Plan Apochromat Objektive 2,5x - 150x (NA 0,9), Objektiv mit 6er Revolverkopf
  •     Trinokularer Tubus, Okular 10x/25
  •     Koehlerbeleuchtung für transmittierendes und reflektiertes Licht, gemischte Beleuchtung möglich
  •     Gelblicht für UV sensitive Materialien
  •     Linear polarisierte Beleuchtung
  •     Hell- und Dunkelfeld Mikroskopie
  •     Vollfarbkamera MC170HD 5MPx
  •     Probentisch (manuell) mit einem fahrbaren Bereich von 4“ x 4“ und Durchlichtbereich

Alpha-Step D-500

Ein Kontakt-Sytlus-Profilometer ist eine taktile Untersuchungsmethode zur Analyse von Stufenhöhen, Stufenformen und der Rauigkeit von Oberflächen. Dieses Gerät liefert ein 2D-Profil (Linienscan) der Oberfläche, indem der Stylus im Kontaktmodus mit einer festgelegten Messlänge und Anpresskraft über die Probe gefahren wird.

Kenndaten

  •    Vertikale Reichweite: 1200 µm, Messlänge: 30 mm
  •     Messungen bei sehr niedriger Anpresskraft von 0,03 - 15 mg
  •     Spitzenradius 2 µm, Öffnungswinkel 60°
  •     Hochauflösende 5 MP Farbkamera mit 4x digitalem Zoom zur Probenpositionierung
  •     Manuelles Ausrichten, Software gesteuertes Ausrichten
  •     Tischdurchmesser 140 mm, Verstellbarkeit 20 mm/ 80 mm, 360° Rotation
  •     Probengrößen von einigen mm Kantenlänge bis zu 4“ Wafern, Probendicke bis zu 20 mm

Nanosurf CoreAFM

Die Rasterkraftmikroskopie eignet sich besonders für die hochauflösende Topografiedarstellung von sehr glatten Oberflächen. Ein Cantilever mit einer Nanometerspitze tastet die Oberfläche ab. Die Kräfte, die zwischen der Spitze und der Probenoberfläche wirken, führen zu einer Verbiegung des Cantilevers. Dadurch können abhängig vom verwendeten Messmodus unterschiedliche Informationen wie die Oberflächentopografie oder Kraft-Weg-Kurven gewonnen werden.

Kenndaten

  •     Messmodi: Kontaktmikroskopie, Dynamische Mikroskopie, Spektroskopie, Lithografie, Phasenkontrastmikroskopie
  •     Vertikale Auflösung: 70 pm
  •     Maximale Messfeldgröße 100 x 100 µm
  •     Messbare Aspektverhältnisse bis 10:1
  •     Probengrößen bis zu 50 x 50 x 5 mm

Horiba Auto SE

Die Ellipsometrie ist eine zerstörungsfreie, optische Untersuchungsmethode zur Dünnschichtcharakterisierung. Bei diesem Gerät wird die Änderung der Polarisation von reflektiertem Licht gemessen und mit Simulationsmodellen verglichen. Diese Analyse ermöglicht die Charakterisierung von optischen Konstanten, sowie der vorhandenen Schichtdicke des Dünnfilms.

Kenndaten

  •     Spektroskopisches Ellipsometer mit einem Wellenlängenbereich von 450 - 850 nm
  •     Liefert die ellipsometrischen Winkel Delta Δ und Psi ψ oder Mueller Matrix Polarimetrie (komplette Mueller Matrix)
  •     Isotrope, anisotrope und depolarisierende Proben, sowie transparente Proben messbar
  •     Messfleckgröße 25 x 60 µm - 500 x 500 µm
  •     Motorisierter Objekttisch für Probengrößen bis zu 6“ und Probendicken bis zu 5 mm
  •     Zusätzliches Kamerasystem zur Probenausrichtung und -positionierung
  •     Ausführliches Software Paket DeltaPsi2 für eine fortgeschrittene Dünnschichtanalyse

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